西格瑪光機強激光用電介質膜反射鏡適用於(yu) 高功率，脈衝(chong) Nd-YAG激光（或Yb-YLF激光）或準分子激光的光學係統的反射鏡。

西格瑪光機強激光用電介質膜反射鏡

通用指標：

材質　　　　　　BK7

鍍膜　　　　　　多層電介質膜

入射角度　　　　45°±3°

基板麵型精度　　λ/10

平行度　　　　　＜3′

表麵質量　　　　10-5

有效直徑　　　　外徑的90%

反麵　　　　　　光學拋光

特點：

●可以提供用於(yu) YAG激光器的，從(cong) 基波（1064nm）到4次諧波（266nm）的反射鏡和ArF（193nm），KrF（248nm）的準分子激光用的反射鏡。

●反射率高，經過多個(ge) 反射鏡反射後，光量也不會(hui) 衰減很多。

●使用吸收小的電介質膜，可以承受大功率激光的連續照射。

信息：

>>>承接製造產(chan) 品目錄之外的其他尺寸或波長特性的反射鏡。請利用客戶問詢單。 

>>>也可以在低散亂(luan) 基板上鍍強激光用多層電介質膜。

>>>激光損傷(shang) 閾值根據ISO21254的200on1進行試驗。（參考 光學數據＞激光損傷(shang) 閾值）

>>>備有保證鍍膜後麵精度的反射鏡（HTFM）。

注意：

1.使用前，請確認入射激光光束的能量密度不要超過激光損傷(shang) 閾值。

2.通過透鏡或凹麵反射使激光光束變細後入射時，可能有能量密度超過激光損傷(shang) 閾值，反射鏡受破損的危險。

3.入射光束的光量很大的時候，光束可能透過反射鏡（透過率1%以下）。請務必在反射鏡的反麵遮擋散亂(luan) 光。

4.紫外譜區的反射鏡有產(chan) 生熒光的可能。對反射鏡熒光有疑問的客戶請至芬創商城聯係我們(men) 。

5.多層電介質膜因為(wei) 入射光束的偏光狀態不同其反射率波長特性將會(hui) 有改變。P偏光與(yu) S偏光相比，反射率變低，反射譜區變窄。

6.技術指標的反射率是用P偏光和S偏光的反射率的平均值來表示的。

7.在設計波長以外的波長區域使用時，反射率有可能降低。