在真空環境下使用西格瑪光機不鏽鋼滑台時，實際測量發現揮發性氣體(ti) 的主要成分為(wei) 水分和碳氫化合物。

我們(men) 推測，這些氣體(ti) 主要來源於(yu) 附著在平台上的水分以及潤滑油脂的揮發。

不同型號的西格瑪光機真空用手動滑台在排氣40分鍾後，其放出氣體(ti) 量如下：

評價(jia) 裝置的技術指標

排氣裝置：

渦輪分子泵STP-301，由EDWARDS公司製造，排氣速度為(wei) 300 ℓ/sec；

質量分析裝置：

四極質譜分析儀(yi) QME200，由PFEIFFER社製造，測量範圍為(wei) 1 - 200amu

這些設備用於(yu) 測量真空腔內(nei) 的真空度和殘留氣體(ti) 成分，從(cong) 而幫助分析和解釋質譜峰的氣體(ti) 成分。

真空腔內(nei) 的真空度

質量成分比例

質譜峰的解釋

利用質譜測定殘留氣體(ti) 時，各分子量處出現的峰值到底是怎樣的氣體(ti) ，其主要成分的一覽表及其解釋如下：

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