西格瑪光機真空用底座是一種用於(yu) 真空環境中的底座，西格瑪光機提供了多種規格型號的真空用途底座，以適應不同的應用場景和設備需求。

規格型號

常見的有不同尺寸的底座，如小型、中型和大型，以匹配不同尺寸的真空腔和負載要求。其尺寸範圍通常從(cong) 幾十毫米到幾百毫米不等，例如小型底座的邊長可能在 50mm 左右，而大型底座的邊長可達 300mm 以上。還有不同材質的底座可供選擇，包括鋁合金、不鏽鋼等。鋁合金底座具有質量輕、導熱性好等優(you) 點，適用於(yu) 對重量和散熱有要求的場合；不鏽鋼底座則具有更高的強度和耐腐蝕性，適用於(yu) 高真空、強腐蝕等惡劣環境。

結構特點

低出氣量設計：在真空環境中，出氣量大會(hui) 影響真空度的穩定性和維持成本等。西格瑪光機真空用途底座采用特殊的材料和製造工藝，有效減少了出氣量，確保在真空腔內(nei) 使用時不會(hui) 因底座自身出氣而破壞真空環境。

通氣孔或槽加工：其螺紋孔等部位都加工了通氣孔或槽，這一設計可以使氣體(ti) 在真空環境下更順暢地流通，避免因局部氣壓不均而產(chan) 生的問題，如影響真空度的快速建立、導致部件之間的吸附或受力不均等。

功能優(you) 勢

靈活固定立柱支架：搭配真空用固定塊（VRC），能夠在任意位置固定真空用立柱支架，滿足不同實驗或生產(chan) 需求中對支架位置的精確調整和固定，方便在真空腔內(nei) 搭建各種結構。

節省空間：立柱支架可互相接近，使得在有限的真空腔體(ti) 內(nei) 能夠更合理地利用空間，布置更多的設備或部件，提高空間利用率。

應用場景

光學實驗與(yu) 研究：在需要在真空環境中進行的光學實驗中，如高分辨率光譜分析、激光物理實驗等，用於(yu) 固定光學元件、反射鏡、透鏡等的支架，確保光路的穩定和精確。

真空鍍膜設備：在真空鍍膜過程中，作為(wei) 蒸發源、濺射靶材等的支撐底座，保證鍍膜材料在真空環境下能夠均勻地沉積在基底上，提高鍍膜質量。

半導體(ti) 製造：在半導體(ti) 芯片製造的光刻、蝕刻等工藝中，為(wei) 光刻機的鏡頭、掩膜版等部件提供穩定的支撐和精確定位，確保芯片製造的精度和質量。

更多產(chan) 品詳細信息>>>芬創商城

加拿大官网开奖号码2004年成立至今，作為(wei) 專(zhuan) 業(ye) 的光機電產(chan) 品和技術服務提供商，加拿大28官方开奖链接長期致力於(yu) 將國際上先進的真空用底座及研究方法介紹引進到中國；專(zhuan) 注為(wei) 中國的光學電子/微電子/激光應用/生物/醫藥/物理、光學研究機構/計量檢測機構/機械加工用戶提供高品質的真空用底座和技術服務。