西格瑪光機光學基板選型指南

2024-10-28 10:28| 發布者: | 查看: |

西格瑪光機光學基板是用於(yu) 反射鏡或分光鏡等,沒有蒸鍍薄膜的玻璃板(基板)。

這種基板可以用於(yu) 製造標準品之外的技術指標的反射鏡或分光鏡,可以在標準品的基板上特訂鍍膜。

使用用途

適用基板

反射鏡

平麵基板(OFB/OFSQ/其他)

光學平板(OPB/OPSQ/OPSQK)

半反射鏡

分光鏡

平行平麵基板(OPB/OPSQ/OPSQK)

楔形基板(WSB/WSSQ/WSSQK)

窗口

平行平麵基板(OPB/OPSQ/OPSQK)

楔形基板(WSB/WSSQ/WSSQK)

凹麵鏡

(激光諧振腔反射鏡)

凹麵反射鏡基板(TCBS/LCBS)

光學樣板

幹涉儀(yi) 參考反射鏡

光學樣板(HMPQP/HMPZP)

光學基準

高能量激光反射鏡

X線反射鏡

低散亂(luan) 平行平麵基板(OPSQSP/WSSQSP)

總結來說,西格瑪光機光學基板作為(wei) 反射鏡或分光鏡的基礎材料,其選擇和應用依賴於(yu) 具體(ti) 的光學需求和技術指標。

如何根據不同的光學需求和技術指標選擇合適的西格瑪光機玻璃基板進行特訂鍍膜?

以下是詳細的步驟和建議:

1.確定基材類型:首先,根據應用需求選擇合適的基材。常見的基材包括光學玻璃、有色玻璃、平片、透鏡、棱鏡、藍寶石、石英、玻璃陶瓷、陶瓷以及紅外材料等。例如,用於(yu) 封裝(IC)載板的玻璃基板應選擇高硼矽或高鋁矽的低膨脹係數和高導熱的玻璃,並經過鋼化處理。

2.考慮尺寸和形狀:基板的尺寸和形狀也需符合特定應用的需求。例如,最大尺寸可達400 x 1,000 mm或Ø400 mm。

3.技術指標匹配:根據應用需求選擇相應的技術指標,如波長範圍、入射角、反射率、相位指標等。例如,對於(yu) OLED用ITO導電膜玻璃,需要表麵粗糙度小於(yu) 1nm,方電阻小於(yu) 10歐姆/□。

4.鍍膜類型選擇:根據不同的應用需求選擇合適的鍍膜類型。例如,透明導電層(ITO)用於(yu) eMi保護,電阻±20%,透射率大於(yu) 80%,低反射率<20%。此外,還有增透膜、濾光片、分束膜等多種鍍膜類型可供選擇。

5.環境適應性:考慮實際應用環境對鍍膜層的影響。例如,在風沙較大的地區,鍍膜層容易受到損傷(shang) ,因此需要選擇耐洗刷、耐磨、耐酸、耐中性鹽霧、耐熱循環等性能較好的玻璃。

6.定製化開發:如果標準品無法滿足特定需求,可以考慮在標準品基板上進行特訂鍍膜。這需要與(yu) 供應商密切合作,確保鍍膜層與(yu) 基板的良好結合,並通過專(zhuan) 業(ye) 測試方法檢測膜層附著力。

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