西格瑪光機光學基準件可以將具有高精度的反射波麵或透過波麵的平麵光學基板，加工為(wei) 客戶要求的形狀或尺寸，可以製造大為(wei) φ300mm的大口徑光學拋光產(chan) 品。也可以進行孔加工或長方形外形等的特殊加工。

特點：

●附有由幹涉儀(yi) 測量的反射波麵，或透過波麵的測量數據。

●根據精度要求和使用環境，可以從(cong) 各種低膨脹材料（玻璃）中選擇基板材料。

●也可以在光學基準上鍍膜。但是，根據鍍膜的種類的不同，有時也不能保證麵型精度。

信息：

>>>另外備有以反射麵精度為(wei) 標準的光學樣板（HMPQP/HMPZP）。

>>>另外備有φ150mm以下的麵型精度為(wei) λ/10的平麵基板（OFPXP）。

注意：

1.拋光後蒸鍍薄膜時，有時不能保證麵型精度。

2.根據材料的購買(mai) 狀況和加工難度，製造時間有時會(hui) 延長。請向營業(ye) 部門確認。

3.把光學基準固定到支架時，如果使用螺紋擰緊固定，或使用硬化性粘接劑，光學基準的麵型精度有時會(hui) 變差。

通用指標：

大外徑　　　　　　　　　　φ300mm

適當厚度　　　　　　　　　　50～38mm(約直徑的1/6～1/8為(wei) 標準)

有效直徑　　　　　　　　　　外徑的90%

材質　　　　　　　　　　　　合成石英或各種低膨脹玻璃

麵型精度　　　　　　　　　　λ/10(隨外徑，厚度而變化。)